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DL-78型單晶爐的熱場(chǎng)和減壓工藝\1前言集成電路生產(chǎn)的發(fā)展一方面不斷縮小元件尺寸，以提高集成度；另一方面不斷擴(kuò)大硅片直徑以減少芯片的離故度和降低成本。相應(yīng)地，作為集成電路基礎(chǔ)材料的硅單晶生產(chǎn)也在不斷地提高其技術(shù)質(zhì)量指標(biāo)和增大單晶錠的直徑和長(zhǎng)度，以滿足電路的要求和降低自身的生產(chǎn)成本。在國(guó)外市場(chǎng)上，硅晶體直徑大致每4～5年增長(zhǎng)1時(shí)（25．4mm），相應(yīng)地，生產(chǎn)投料重也由1公斤逐漸發(fā)展為3～5公斤、8～12公斤、15～劉公斤和朋～6O公廳等幾個(gè)等級(jí)。在這發(fā)展中，有兩個(gè)條件是相輔相成、共同進(jìn)步的，這是單晶爐和拉晶工藝。