研磨介質(zhì)填充率從40%增加至75%時，運行電流曲線呈上升趨勢，反映砂磨機(jī)中的研磨介質(zhì)得到充分?jǐn)噭?，能量需求變化大；填充率?5%-85%，運行電流曲線變化平穩(wěn)，反映砂磨機(jī)中的介質(zhì)達(dá)到一個平衡點，能量需求穩(wěn)定；填充率大于85%，運行電流曲線變化呈下降趨勢，反映砂磨機(jī)中的研磨介質(zhì)過量，研磨介質(zhì)與分散盤之間有滑動現(xiàn)象，分散盤不能帶動所有研磨介質(zhì)運動，能量需求降低。因此，根據(jù)砂磨機(jī)的電流變化曲線可知，研磨介質(zhì)適宜的填充率為80%。

以達(dá)到外表平坦，使分散在液體中的固體粒子微粒化。增加反射率，發(fā)生光澤并提高遮蓋率，如油漆，油墨，色膏等。 以提高反應(yīng)速率及均勻程度，使液體中懸浮之粒子表面積增加。如在樹脂中添加粒狀之硬化劑，或化學(xué)反應(yīng)中粉粒狀之原料。延長沉淀時間，懸浮在液體中之微小粒子，達(dá)到臨時懸浮之目的，如水懸性農(nóng)藥，可增加散布面積延長藥效，或果汁如芭藥汁等等。

傳統(tǒng)砂磨機(jī)使用的縫隙環(huán)（很小的過流面積）及靜態(tài)篩網(wǎng)很難分離小尺寸介質(zhì)分離！所以越來越多的使用動態(tài)離心分離系統(tǒng)。分離轉(zhuǎn)子帶動介質(zhì)旋轉(zhuǎn)而產(chǎn)生的離心力使介質(zhì)被甩向轉(zhuǎn)子外周圍，而轉(zhuǎn)子中心主要是料漿，而將分離篩網(wǎng)布置在轉(zhuǎn)子中心，料將可以順利的通過篩網(wǎng)縫隙而流出，不會發(fā)生堵塞及磨損。所以將干法氣流分級原理用于砂磨機(jī)介質(zhì)分離是砂磨機(jī)發(fā)展史上的技術(shù)飛躍！