化學(xué)組分上的均勻性： 就是說在薄膜中，化合物的原子組分會由于尺度過小而很容易的產(chǎn)生不均勻特性，SiTiO3薄膜，如果鍍膜過程不科學(xué)，那么實際表面的組分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，鍍的膜并非是想要的膜的化學(xué)成分，這也是真空鍍膜的技術(shù)含量所在。 具體因素也在下面給出。

濺射鍍膜又分為很多種，總體看，與蒸發(fā)鍍膜的不同點在于濺射速率將成為主要參數(shù)之一。濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld，組分均勻性容易保持，而原子尺度的厚度均勻性相對較差（因為是脈沖濺射），晶向（外沿）生長的控制也比較一般。

真空鍍膜機的污染物可以定義為“任何一種無用的物質(zhì)或能量”。多弧離子鍍膜機根據(jù)污染物的物理狀態(tài)可分為固態(tài)、氣態(tài)和液態(tài)，污染物以薄膜或顆粒的形式存在。就其化學(xué)特性而言，它可以是離子態(tài)或共價態(tài)，無機態(tài)或有機態(tài)。

暴露在空氣中的真空鍍膜機表面容易受到污染。污染源有很多，初的污染通常是地表本身的一部分。吸附現(xiàn)象、化學(xué)反應(yīng)、浸出干燥過程、機械處理、擴散和偏析過程都增加了各種組分的表面污染物。真空材料表面的常見污染物如下。

　　①油脂:潤滑劑、切削液、真空油脂等。在加工、組裝和操作過程中被污染;

　?、谒?操作時的手汗、吹氣時的水蒸氣、唾液等。

　?、郾砻嫜趸?材料長時間放置在空氣中或潮濕空氣中形成的表面氧化物;

　?、芩?、堿、鹽類物質(zhì):清洗時的殘留物質(zhì)、手汗、水中的礦物質(zhì)等。

　　⑤環(huán)境空氣中的拋光殘渣、灰塵和其他有機物等。

前期清洗真空鍍膜機可以減少很多麻煩，避免濺射鍍膜機的很多小問題，對真空鍍膜機的工作效率和鍍膜質(zhì)量有非常積極的作用。它可以大大提高真空系統(tǒng)中所有壁面和其他部件表面在各種工況下的工作穩(wěn)定性。這些工作條件包括:高溫、低溫以及電子、離子、光子或重粒子的發(fā)射和轟擊。

真空是支撐真空鍍膜機運行的環(huán)境，尤其是需要高真空度的設(shè)備。通常，我們需要達到高的真空度，而抽氣系統(tǒng)的功能是不可缺少的。但是除了抽氣系統(tǒng)之外，真空鍍膜設(shè)備的操作還有一點，就是工件的脫氣。有些工件內(nèi)部有大量氣體和水分，在設(shè)備加熱時會排入真空室，降低真空度。更有甚者，有些氣體含有有毒成分，直接破壞真空室內(nèi)部機械結(jié)構(gòu)，導(dǎo)致設(shè)備無法正常運行。