真空度低解決方法：清潔真空室內(nèi)的送鋁、蒸鍍裝置、冷卻系統(tǒng)、放卷、卷取裝置及導(dǎo)輥；檢查抽真空系統(tǒng)；降低環(huán)境濕度。 ②薄膜釋放氣體 解決方法：薄膜預(yù)干燥；延長(zhǎng)抽真空時(shí)間。 ③噴鋁過(guò)多解決方法：提高車速；降低蒸發(fā)舟電流；降低送鋁速度。 ④蒸發(fā)舟內(nèi)有雜質(zhì) 解決方法：清潔蒸發(fā)舟及熱屏蔽板。 ⑤蒸發(fā)舟老化 解決方法：更換蒸發(fā)舟。 補(bǔ)充： 以上不知道有沒(méi)有幫助。鍍鋁發(fā)霧的問(wèn)題我就不知道了，不好意思。 追問(wèn)： 不好意思，我沒(méi)有說(shuō)你才疏學(xué)淺的意思- -#，我意思說(shuō)就像發(fā)黃的原因有：1, 真空度過(guò)低;延長(zhǎng)抽真空時(shí)間 2, 鍍膜時(shí)有其他放氣源影響鍍膜效果,比如夾具或膠紙 3，鍍膜時(shí)間過(guò)長(zhǎng)；噴鋁過(guò)多 4，鍍膜電流過(guò)高

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蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來(lái)。并且沉降在基片表面，通過(guò)成膜過(guò)程（散點(diǎn)－島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長(zhǎng)）形成薄膜。?

對(duì)于濺射類鍍膜，可以簡(jiǎn)單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來(lái)，并且終沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過(guò)程，終形成薄膜。

在光學(xué)薄膜的尺度上看（也就是1/10波長(zhǎng)作為單位，約為100A），真空鍍膜的均勻性已經(jīng)相當(dāng)好，可以輕松將粗糙度控制在可見(jiàn)光波長(zhǎng)的1/10范圍內(nèi)，也就是說(shuō)對(duì)于薄膜的光學(xué)特性來(lái)說(shuō)，真空鍍膜沒(méi)有任何障礙。?

濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld，組分均勻性容易保持，而原子尺度的厚度均勻性相對(duì)較差（因?yàn)槭敲}沖濺射），晶向（外沿）生長(zhǎng)的控制也比較一般。

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在簡(jiǎn)易隔離式偏壓電源設(shè)計(jì)中，非對(duì)稱半橋反激電路是關(guān)鍵。它通過(guò)同步降壓電路提供隔離電源，類似于同步降壓調(diào)節(jié)器的工作原理。輸入電壓驅(qū)動(dòng)的場(chǎng)效應(yīng)管(FET)驅(qū)動(dòng)電感電容濾波器，隨后通過(guò)分壓器和誤差放大器的協(xié)同作用，調(diào)整濾波器輸出，保持DC電壓穩(wěn)定。特別之處在于，電感電路中的耦合繞組和二極管設(shè)計(jì)巧妙地解決了負(fù)載電壓調(diào)節(jié)的難題，通過(guò)二極管的直流電壓調(diào)整，提升了負(fù)載調(diào)節(jié)的精度。如果采用場(chǎng)效應(yīng)管替代，性能將進(jìn)一步提升。

總結(jié)起來(lái)，真空多弧離子鍍膜機(jī)的偏壓電源是一個(gè)精密調(diào)控的系統(tǒng)，它通過(guò)復(fù)雜的電路設(shè)計(jì)，確保了離子的加速和沉積過(guò)程，從而實(shí)現(xiàn)的涂層工藝。無(wú)論是直流還是脈沖電源，每一環(huán)節(jié)都對(duì)終的鍍膜效果有著至關(guān)重要的影響。

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抽空時(shí)間相同，而真空度偏低，這時(shí)候關(guān)閉主閥，如真空計(jì)指針很快下降，多數(shù)情況是真空室漏，應(yīng)先查出漏點(diǎn)。如真空計(jì)指針下降很慢，多數(shù)情況是真空機(jī)組抽氣能力不夠，查找真空泵及閥門看哪里出現(xiàn)泄漏，或是擴(kuò)散泵油污染或氧化；或前級(jí)管路密封不好，泵油不足；或泵油乳化，軸封漏油等。漏--分內(nèi)漏和外漏，較大的漏點(diǎn)可以用火焰法，利用氣流能使火焰偏離的原理，先抽上真空，比如用蠟燭或打火機(jī)在可疑點(diǎn)附近逐步查尋，會(huì)發(fā)現(xiàn)火苗向漏點(diǎn)偏移，則可找到漏點(diǎn)。查找小漏和微漏：利用在高真空狀態(tài)下電離管對(duì)某些氣體反應(yīng)敏感來(lái)檢漏，比如丙酮或乙醇，用醫(yī)用注射器向可疑的地方噴射丙酮或乙醇，噴到漏點(diǎn)時(shí)，電離計(jì)的指針會(huì)有明顯擺動(dòng)。用這種方法檢漏一定要有耐心，一定要等到電離計(jì)的示值穩(wěn)定了--也就是真空機(jī)組的抽氣能力和漏率平衡了，然后再噴射。好是反復(fù)幾次，確認(rèn)漏點(diǎn)。內(nèi)漏多發(fā)生在有水冷套的設(shè)備上，查外漏沒(méi)有發(fā)現(xiàn)疑點(diǎn)，但是卻有以下現(xiàn)象：機(jī)械泵的抽速明顯偏低、真空計(jì)示值低、機(jī)械泵油很快乳化、真空室內(nèi)的鐵基零部件明顯銹蝕。具備以上條件基本可以確定有內(nèi)漏。

真空鍍膜加工中冷卻設(shè)備需要提供智能、穩(wěn)定的冷凍水，來(lái)確保真空鍍膜工藝中電鍍液的溫度恒定，所以會(huì)選擇使用水冷式冷水機(jī)來(lái)作為真空鍍膜加工冷卻設(shè)備。

一 真空鍍膜加工中冷卻設(shè)備冷水機(jī)的作用

真空鍍膜加工過(guò)程中，真空鍍膜機(jī)作為主要設(shè)備，工作過(guò)程中有高頻電流過(guò)程，電導(dǎo)會(huì)在反復(fù)過(guò)程中產(chǎn)生大量熱能并且集聚在一起，需要冷卻設(shè)備及時(shí)地進(jìn)行冷卻，避免設(shè)備部件損壞，影響使用壽命；另外，真空鍍膜電鍍液需要根據(jù)電鍍產(chǎn)品不同進(jìn)行溫度調(diào)節(jié)，并保持相對(duì)恒溫，反復(fù)鍍膜會(huì)造成鍍液溫度升高，同樣需要冷卻設(shè)備來(lái)準(zhǔn)確地控制和穩(wěn)定電鍍液的溫度。在工業(yè)生產(chǎn)控溫中，根據(jù)真空鍍膜加工的實(shí)際需求，選用相應(yīng)規(guī)格的冷水機(jī)設(shè)備來(lái)進(jìn)行、穩(wěn)定的溫度控制調(diào)節(jié)是經(jīng)濟(jì)有效的解決方案。

1）所需設(shè)備：CCZK-1350-OGS光學(xué)電子槍鍍膜設(shè)備
　　2）獲得膜層：多層化合物膜層，超硬防水膜層，防指紋膜層，彩色膜層
　　3）涂裝流程：玻璃產(chǎn)品的前處理清洗----烘箱烘干-----真空鍍膜----成品包裝
　　4）基本配置：
　　腔體結(jié)構(gòu)：D1350MM*H1350MM 立式單開(kāi)門
　　腔體材質(zhì)：304不銹鋼
　　轉(zhuǎn)動(dòng)方式：公自轉(zhuǎn)結(jié)合，穹頂行星式轉(zhuǎn)架
　　蒸發(fā)電源：SCR可控硅+大功率蒸發(fā)變壓器
　　蒸發(fā)阻源：3組
　　電 子 槍：E型電子槍，磁偏轉(zhuǎn)270°
　　坩 ? ?堝：可旋轉(zhuǎn)多孔位坩堝

1）所需設(shè)備：CCZK-1850SFL連續(xù)式磁控鍍膜流水線
　　2) 獲得膜層：一層或多層金屬，合金或金屬化合物膜層
　　3）涂裝流程： 玻璃產(chǎn)品的前處理清洗過(guò)程---進(jìn)片上線臺(tái)---粗抽室---過(guò)渡室---精抽室---緩沖室---鍍膜室---后緩沖---精抽室---過(guò)渡室---粗抽室---出片下線臺(tái)---淋漆流水線（如果需要）---包裝成品
　　4）基本配置：
　　1.腔體結(jié)構(gòu)：采用的臥式連續(xù)磁控鍍膜流水線，配備前后粗抽室，前后過(guò)渡室，前后精抽室，前后緩沖室，彩鍍室。
　　2.腔體材質(zhì)：碳鋼
　　3.靶材設(shè)計(jì)：采用新型旋極靶材以及平面陰極靶材。
　　4.電源配置：配備大功率中頻或直流磁控濺射電源
　　5.電氣控制：生產(chǎn)線采用PLC全過(guò)程控制，配備工業(yè)計(jì)算機(jī)人機(jī)交互系統(tǒng)，快速的節(jié)拍設(shè)計(jì)。
　　6.人機(jī)對(duì)話：控制系統(tǒng)能實(shí)現(xiàn)人、機(jī)對(duì)話，及時(shí)對(duì)生產(chǎn)過(guò)程進(jìn)行必要干預(yù)。運(yùn)行過(guò)程有報(bào)警提示和故障顯示，故障顯示能提示操作人員正確的操作和排故。
　　7.傳動(dòng)系統(tǒng)：滾軸傳動(dòng)，變頻可調(diào)
　　8.可鍍膜玻璃或平板,尺寸可定制
　　9. 生產(chǎn)線安采用了的插板閥進(jìn)行腔室隔斷，可以實(shí)現(xiàn)有效隔斷，穩(wěn)定工藝氣體。
　　10.生產(chǎn)線采用了均勻進(jìn)氣管結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，氣流注入均勻平緩；
　　11.泵抽系統(tǒng)：擴(kuò)散泵組或分子泵組+機(jī)械泵+羅茨泵
　　5）需求配套設(shè)施：

直接的鍍膜控制方法是石英晶體微量平衡法(QCM)，這種儀器可以直接驅(qū)動(dòng)蒸發(fā)源，通過(guò)PID控制循環(huán)驅(qū)動(dòng)擋板，保持蒸發(fā)速率。只要將儀器與系統(tǒng)控制軟件相連接，它就可以控制整個(gè)的鍍膜過(guò)程。但是(QCM)的度是有限的，部分原因是由于它監(jiān)控的是被鍍膜的質(zhì)量而不是其光學(xué)厚度。
? ? 此外雖然QCM在較低溫度下非常穩(wěn)定，但溫度較高時(shí)，它會(huì)變得對(duì)溫度非常敏感。在長(zhǎng)時(shí)間的加熱過(guò)程中，很難阻止傳感器跌入這個(gè)敏感區(qū)域，從而對(duì)膜層造成重大誤差。
? ? 光學(xué)監(jiān)控是高精密鍍膜的的監(jiān)控方式，這是因?yàn)樗梢愿乜刂颇雍穸?如果運(yùn)用得當(dāng))。度的改進(jìn)源于很多因素,但根本的原因是對(duì)光學(xué)厚度的監(jiān)控。
? ? OPTIMAL SWA-I-05單波長(zhǎng)光學(xué)監(jiān)控系統(tǒng)，是采用間接測(cè)控，結(jié)合汪博士開(kāi)發(fā)的光學(xué)監(jiān)控軟件，有效提高光學(xué)反應(yīng)對(duì)膜厚度變化靈敏度的理論和方法來(lái)減少誤差，提供了反饋或傳輸?shù)倪x擇模式和大范圍的監(jiān)測(cè)波長(zhǎng)。特別適合于各種膜厚的鍍膜監(jiān)控包括非規(guī)整膜監(jiān)控。

現(xiàn)場(chǎng)實(shí)際運(yùn)行證明丹佛斯FC302驅(qū)動(dòng)器+MCO305運(yùn)動(dòng)控制器的解決方案完夠滿足真空鍍膜機(jī)的卷繞控制要求。整機(jī)加減速速度超過(guò)原來(lái)的控制方式，大大減少了原材料的浪費(fèi)?？刂葡到y(tǒng)調(diào)試和參數(shù)設(shè)置都比較方便。令客戶滿意的是電機(jī)可以采用比較經(jīng)濟(jì)的交流異步電機(jī)，在張力控制精度要求更高的場(chǎng)合才需要升級(jí)使用交流永磁同步電機(jī)。由于FC302既能驅(qū)動(dòng)異步電機(jī)，又能驅(qū)動(dòng)同步電機(jī)，系統(tǒng)升級(jí)時(shí)只需簡(jiǎn)單地更換電機(jī)即可。