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半水基清洗劑的特點(diǎn)是揮發(fā)速度很慢，氣味小。采用半水基清洗劑清洗的設(shè)備在個(gè)清洗單元中無需密封冷凝和蒸餾回收裝置。但由于半水基清洗劑粘度較大，并且對(duì)后續(xù)工序使用的水基清洗劑有乳化作用，所以第二個(gè)單元須市水漂洗，并且好將其設(shè)為漂洗。國(guó)內(nèi)應(yīng)用此種工藝的企業(yè)不多，其中一個(gè)原因是半水基清洗劑多為進(jìn)口，價(jià)格比較昂貴。從水基清洗單元開始，半水基清洗工藝同溶劑清洗工藝基本相同。在此不再贅述。兩種清洗方式的比較溶劑清洗是比較傳統(tǒng)的方法，其優(yōu)點(diǎn)是清洗速度快，效率比較高，溶劑本身可以不斷蒸餾再生，循環(huán)使用；但缺點(diǎn)也比較明顯，由于光學(xué)玻璃的生產(chǎn)環(huán)境要求恒溫恒濕，均為封閉車間，溶劑的氣味對(duì)于工作環(huán)境多少都會(huì)有些影響，尤其是使用不封閉的半自動(dòng)清洗設(shè)備時(shí)。在濃硫酸、、，甚至在王水中煮沸，其重量及性能均無變化，也幾乎不溶于所有的溶劑，只在3℃以上稍溶于全烷烴(約.1g／1g)。聚四氟不吸潮，不燃，對(duì)氧、紫外線均極穩(wěn)定，所以具有的耐候性。電性能聚四氟在較寬頻率范圍內(nèi)的介電常數(shù)和介電損耗都很低，而且擊穿電壓、體積電阻率和耐電弧性都較高。耐輻射性能聚四氟的耐輻射性能較差(14拉德)，受高能輻射后引起降解，高分子的電性能和力學(xué)性能均明顯下降。
