粉碎機(jī)利用活動(dòng)齒盤和固定齒盤見的高速相對運(yùn)動(dòng)，使被粉碎物經(jīng)齒沖擊，摩擦及物料彼此間沖擊等綜合作用獲得粉碎。本機(jī)結(jié)構(gòu)簡單、堅(jiān)固、運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn)、粉碎效果良好，被粉碎物可直接由主機(jī)磨腔中排出、粒度大小通過更換不同孔徑的網(wǎng)篩獲得，另外該機(jī)為全不銹鋼。機(jī)殼內(nèi)壁全部經(jīng)機(jī)加工達(dá)到表面平滑，改變了以前機(jī)型內(nèi)壁粗糙、積粉的現(xiàn)象，使藥品、食品、化工等生產(chǎn)更符合國家標(biāo)準(zhǔn)，達(dá)到GMP的要求。

高速機(jī)械沖擊式粉碎機(jī)廣泛應(yīng)用在礦業(yè)、化工、建材、藥物等行業(yè)，但由于機(jī)械高速運(yùn)行會產(chǎn)生磨損問題，因而不適于粉碎硬度大的物料，此外有發(fā)熱問題，對熱敏性物質(zhì)的粉碎需采取適當(dāng)措施。高速機(jī)械沖擊式粉碎機(jī)一般用于粉碎中等硬度、非黏性物料，如滑石、方解石、高嶺土、云母、石墨、硅灰石、膨潤土、硅藻土、氧化鋁、顏料等?！?br/>
立式機(jī)械沖擊粉碎機(jī)的轉(zhuǎn)子驅(qū)動(dòng)軸豎直設(shè)置，轉(zhuǎn)子圍繞該垂直軸高速回轉(zhuǎn)進(jìn)行物料的粉碎。這種類型的粉碎機(jī)大都內(nèi)置分級輪。圖所示為ACM型機(jī)械沖擊式粉碎機(jī)原理示意圖，其基本原理：物料由螺旋給料機(jī)強(qiáng)制喂入粉碎室內(nèi)，在高速轉(zhuǎn)子與帶齒襯套定子之間受到?jīng)_擊剪切而粉碎。然后，在氣流的帶動(dòng)下通過導(dǎo)向環(huán)的引導(dǎo)進(jìn)入中心分級區(qū)域分選，細(xì)粉作為成品隨氣流通過分級渦輪后從中心管排出，由收塵裝置捕集；粗粉在重力作用下落回轉(zhuǎn)子粉碎區(qū)內(nèi)再次被粉碎。其產(chǎn)品平均細(xì)度在10～1 000μm范圍，且粉碎產(chǎn)品粒度分布窄，顆粒接近球形化。

臥式機(jī)械沖擊式粉碎機(jī)轉(zhuǎn)子軸水平放置，轉(zhuǎn)子圍繞水平軸高速回轉(zhuǎn)實(shí)現(xiàn)物料的粉碎。典型產(chǎn)品有Super Miero Mill型、CW型等，圖6．79為Super Miero Mill型粉碎機(jī)結(jié)構(gòu)和工作原理示意圖，物料經(jīng)料斗和給料器定量連續(xù)地給人粉碎室，在轉(zhuǎn)子1的沖擊粉碎作用下被粉碎成數(shù)百微米大小的粉體。風(fēng)機(jī)從給料端吸入空氣，粉碎室內(nèi)的空氣流向風(fēng)機(jī)方向回轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)并將粉碎室粉碎后的物料輸人第二粉碎室。在粉碎室內(nèi)轉(zhuǎn)子1向排料端傾斜，因此它促進(jìn)空氣的流動(dòng)；但在第二粉碎室內(nèi)的轉(zhuǎn)子2不傾斜，因此它阻礙或遲緩空氣的流動(dòng)。由于這種結(jié)構(gòu)，空氣流挾著物料在粉碎室中反復(fù)循環(huán)，延長了物料在粉碎室中的停留時(shí)間，使物料受到轉(zhuǎn)子的多次沖擊或打擊作用。這種空氣流的離心運(yùn)動(dòng)還具有分級的作用。除了轉(zhuǎn)子的沖擊或打擊作用外，在這種磨機(jī)中顆粒之間還有相互的研磨和摩擦作用。處于轉(zhuǎn)子1和轉(zhuǎn)子2之間的物料受到強(qiáng)烈的攪動(dòng)和顆粒相互間的研磨作用；同時(shí)轉(zhuǎn)子末端之間較小的間隙以及轉(zhuǎn)子與襯套之間的細(xì)小間隙也使物料受到器件之間的研磨作用。

超細(xì)粉碎機(jī)是采用國內(nèi)外同類產(chǎn)品的結(jié)構(gòu)，并在同行業(yè)雷蒙磨的基礎(chǔ)上更新改進(jìn)設(shè)計(jì)而成的高細(xì)制粉加工的機(jī)器。

家用中藥粉碎機(jī)，醫(yī)療器械，適用于醫(yī)藥、農(nóng)業(yè)、食品、化工、合金、冶金、地質(zhì)、科研等單位多品種小批量中藥、貴重藥材、礦石、化學(xué)原料如：阿膠、乳香、黃芪、三七、海馬、菟絲子、靈芝、甘草、珍珠等不同性質(zhì)物料均能很好粉碎。本機(jī)采用高速單相電機(jī)，結(jié)構(gòu)精密、體積小、重量輕、功效高、無粉塵、清潔衛(wèi)生、操作簡單、造型美觀、既省電又安全等特點(diǎn)，使藥品、食品、化工等生產(chǎn)更符合國家標(biāo)準(zhǔn)，達(dá)到GMP的要求。