蝕刻(etching)又稱為光化學(xué)蝕刻,是把材料使用化學(xué)反應(yīng)或物理撞擊作用而移除的技術(shù),可分為濕蝕刻(wet etching)和干蝕刻(dry etching)兩種類型。通常所指蝕刻也稱光化學(xué)蝕刻(photochemical etching),指通過曝光制版、顯影后,將要蝕刻區(qū)域的保護(hù)膜去除,在蝕刻時(shí)接觸化學(xué)溶液,達(dá)到溶解腐蝕的作用,形成凹凸或者鏤空成型的效果。
傳統(tǒng)的蝕刻加工方法生產(chǎn)效率低下,污染極為嚴(yán)重,制作而成的蝕刻網(wǎng)有花邊、毛刺、砂眼等質(zhì)量方面的問題。數(shù)印通蝕刻優(yōu)版的出現(xiàn),完全解決了傳統(tǒng)工藝所存在的缺陷,采用的噴墨印刷軟件和噴墨印刷設(shè)備,完全避免了環(huán)境污染的問題,不僅提高了生產(chǎn)效率,還了蝕刻網(wǎng)的質(zhì)量。
金屬蝕刻的原理
通常所指金屬蝕刻也稱光化學(xué)金屬蝕刻(photochemicaletching),指通過曝光制版、顯影后,將要金屬蝕刻區(qū)域內(nèi)的保護(hù)膜去除,在金屬蝕刻時(shí)接觸化學(xué)溶液,達(dá)到溶解腐蝕的作用,形成凹凸或者鏤空成型的效果。起初可用來制造銅版、鋅版等印刷凹凸版,也廣泛地被使用于減輕重量。