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為了避免下驅(qū)動裝置4受到外界震動的影響，進而保下驅(qū)動裝置4的工作精度，所述底座1和下驅(qū)動裝置4之間設(shè)置有減震裝置，所述下驅(qū)動裝置4的底端設(shè)置有承載板41，所述承載板41通過少兩個螺釘16固定連接在底座1上，所訴減震裝置包括與螺釘16分別一一對應(yīng)的下減震橡膠墊171和上減震橡膠墊181，所述下減震橡膠墊171套裝在螺釘16的下端部，所述下減震橡膠墊171的底部和底座1抵接，所述下減震橡膠墊171的頂部和承載板41抵接，以便于通過下橡膠減震171墊吸收從外界傳來的震動，以避免下驅(qū)動裝置4受到外界震動的影響，所述上減震橡膠墊172套裝在螺釘16的上端部，且所述上減震橡膠墊172與承載板41的上端面壓接，以避免螺釘16的震動影響到承載板41。

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DL-78型單晶爐的熱場和減壓工藝\1前言集成電路生產(chǎn)的發(fā)展一方面不斷縮小元件尺寸，以提高集成度；另一方面不斷擴大硅片直徑以減少芯片的離故度和降低成本。相應(yīng)地，作為集成電路基礎(chǔ)材料的硅單晶生產(chǎn)也在不斷地提高其技術(shù)質(zhì)量指標(biāo)和增大單晶錠的直徑和長度，以滿足電路的要求和降低自身的生產(chǎn)成本。在國外市場上，硅晶體直徑大致每4～5年增長1時（25．4mm），相應(yīng)地，生產(chǎn)投料重也由1公斤逐漸發(fā)展為3～5公斤、8～12公斤、15～劉公斤和朋～6O公廳等幾個等級。在這發(fā)展中，有兩個條件是相輔相成、共同進步的，這是單晶爐和拉晶工藝。分子泵回收，真空泵回收，真空流量計回收，plc編程回收，控制屏回收，離子泵回收，渦輪分子泵回收，螺桿真空泵回收，渦旋高真空泵回收，上虞半導(dǎo)體材料生產(chǎn)設(shè)備的設(shè)計、制造和調(diào)試的股份制企業(yè)。通過人才引進，擁有一批高、中級技術(shù)型的研發(fā)設(shè)計人員和經(jīng)營管理人才，具有自主的產(chǎn)品設(shè)計開發(fā)能力和相當(dāng)規(guī)模的生產(chǎn)能力。依托浙江大學(xué)機械電子控制工程研究所的高科技優(yōu)勢，通過與浙江大學(xué)大學(xué)科技園杭州慧翔電液技術(shù)開發(fā)有限合作，共同開發(fā)出擁有自主知識產(chǎn)權(quán)的ZJS系列TDR80A，TDR80B，TDR8，TDR9型全自動晶體生長爐，并形成批量生產(chǎn)。