熱處理過(guò)程中使用氫氣（H?）作為保護(hù)氣體或還原氣體時(shí)，氫氣的純度對(duì)工藝質(zhì)量、產(chǎn)品性能和設(shè)備安全具有重要影響。因此， 氫氣雜質(zhì)檢測(cè) 是熱處理工藝中不可或缺的一環(huán)。 一、為什么需要檢測(cè)氫氣中的雜質(zhì)？ 在熱處理中，氫氣常用于： 退火 ：改善材料組織結(jié)構(gòu) 淬火 ：控制冷卻速度 滲碳/氮化 ：提供還原性氣氛 燒結(jié) ：防止氧化 若氫氣中含有雜質(zhì)（如氧氣、水分、氮?dú)狻?、二氧化碳、甲 等），導(dǎo)致以下問(wèn)題： | 雜質(zhì) | 影響 | | | | | 氧氣（O?） | 易燃易爆，引起爆炸；與金屬反應(yīng)導(dǎo)致氧化 | | 水分（H?O） | 引起金屬腐蝕、降低材料強(qiáng)度 | | 氮?dú)猓∟?） | 稀釋氫氣濃度，影響還原效果 | | （CO） | 參與不完全燃燒，產(chǎn)生有毒氣體 | | 二氧化碳（CO?） | 酸性氣體，腐蝕設(shè)備 | | 甲 （CH?） | 不可燃?xì)怏w，降低氫氣純度 | 二、氫氣雜質(zhì)檢測(cè)項(xiàng)目 常見(jiàn)的氫氣雜質(zhì)檢測(cè)項(xiàng)目包括： | 檢測(cè)項(xiàng)目 | 含量范圍（ppm） | 測(cè)量方法 | | | | | | 氧氣（O?） | ≤10 ppm | 氣相色譜法（GC）、電化學(xué)傳感器 | | 水分（H?O） | ≤10 ppm | 露點(diǎn)儀、電解法、卡爾費(fèi)休滴定 | | 氮?dú)猓∟?） | ≤50 ppm | 氣相色譜法（GC） | | （CO） | ≤5 ppm | 氣相色譜法（GC）、紅外吸收法 | | 二氧化碳（CO?） | ≤5 ppm | 氣相色譜法（GC）、非分散紅外法 | | 甲 （CH?） | ≤10 ppm | 氣相色譜法（GC） | | 其他烴類（C?H?, C?H?等） | ≤5 ppm | 氣相色譜法（GC） | 三、檢測(cè)方法

1. 氣相色譜法（GC） 原理：利用不同氣體組分在色譜柱中的分離特性進(jìn)行分析。 優(yōu)點(diǎn)：、可同時(shí)檢測(cè)多種氣體。 常用檢測(cè)器： TCD（熱導(dǎo)檢測(cè)器） FID（火焰離子化檢測(cè)器） ECD（電子捕獲檢測(cè)器）

2. 2. 露點(diǎn)儀 用于測(cè)量氫氣中的水分含量（以露點(diǎn)溫度表示）。 常見(jiàn)類型：鏡面冷凝式、阻抗式、半導(dǎo)體式。

3. 3. 電化學(xué)傳感器 適用于快速檢測(cè)氧氣、 等氣體。 優(yōu)點(diǎn)：響應(yīng)快、成本低。