物理回收法（適用于金屬靶材）
真空熔煉：將屬靶材廢渣（如銅、鈦）在真空爐中（壓強 < 1Pa，溫度 1200-1600℃）熔煉，去除易揮發(fā)雜質(zhì)（如鋅），直接澆鑄為新靶材坯料，純度保持 99.9% 以上。
粉末冶金：靶材碎屑經(jīng)氫化 - 脫氫處理（HDH 工藝）制成金屬粉末，再通過壓制 - 燒結(jié)（如放電等離子燒結(jié) SPS）制成靶材，適用于鈦、鋯等活性金屬。

真空電鍍通過在真空環(huán)境下將金屬或化合物氣化（如濺射、蒸發(fā)）后沉積于基材表面，常見于裝飾鍍層（如手表、五金件）、功能鍍層（如硬質(zhì)涂層、導電層）生產(chǎn)。

通過合理的電鍍廢渣回收，可以有效減少這些有害物質(zhì)對環(huán)境的污染。，回收處理可以將廢渣中的有害物質(zhì)分離出來，從而避免進一步的擴散。其次，通過技術(shù)手段，可以對廢渣進行有效的處理和清潔，降低有害物質(zhì)的含量，使其達到環(huán)境排放標準。后，回收后的電鍍廢渣可以作為再生材料，用于制造其他產(chǎn)品，實現(xiàn)資源的循環(huán)利用，進一步減少對環(huán)境的壓力。