常見故障的排除由于操作條件、使用方法等因素的變化，常導致設(shè)備不能正常運行，甚至使?jié)饪s過程中斷。因此，了解濃縮設(shè)備的正常操作條件和使用方法對設(shè)備操作、維修人員來說是的。
（1）三效蒸發(fā)器運行失敗。低真空太低，不能保持濃縮物的沸點，二次蒸汽的溫度升高，從而降低加熱蒸汽和濃縮物之間的有效溫差，減少熱傳遞并減慢蒸汽蒸發(fā)速率，而且加熱材料的加熱溫度，影響活性成分的保存。真空度過低，除了質(zhì)量集中的影響外，還降低了設(shè)備的生產(chǎn)能力。低真空的原因如下：
（1）將各部分的設(shè)備濃縮到空氣中?？諝獾臐B透增加了真空設(shè)備的額外負擔，甚至會導致故障。
（2）冷卻水不足。除了泵設(shè)備的原因外，缺少冷卻水主要是由于管道堵塞，造成閥門損壞。冷卻水的量不足以使二次蒸汽不能及時冷凝，嚴重影響真空設(shè)備的運轉(zhuǎn)。
（3）冷卻水溫度過高。冷卻水進入水溫過高，集中加熱產(chǎn)生的大量二次蒸汽不能及時冷凝，濃縮設(shè)備，真空度將迅速降低。
（4）使用蒸汽壓力過高。加熱蒸汽壓力太高，不足以豐富設(shè)備的蒸發(fā)速度快速增加，大量二次蒸汽生產(chǎn)增加了冷卻設(shè)備的負荷，使真空逐漸減少。降低真空度也會增加材料的蒸發(fā)溫度，同時影響產(chǎn)品質(zhì)量，終降低設(shè)備生產(chǎn)能力。
（5）真空設(shè)備有故障。
真空度過高
（1）濃縮設(shè)備冷卻水入口溫度過低，設(shè)備真空度過高。雖然高真空度增加了加熱的蒸汽與材料的沸點之間的有效溫差，但是有利的是增加熱傳遞并加速蒸發(fā)速率。然而，由于二次蒸汽的蒸發(fā)潛熱隨著真空度的增加而增加，相應地增加蒸汽消耗。
（2）由于低壓或蒸汽流速，蒸發(fā)速率大大降低。
（3）在使用軟飲料分離器的設(shè)備中，由于堵塞水分離器引起冷凝水排放不良，使加熱器水嚴重。另外，如果加熱蒸汽的質(zhì)量差，或者冷蒸汽管的絕緣性差，而且加熱器內(nèi)部的水嚴重，使傳熱困難，使真空度過高。
（4）加熱器表面的嚴重焦化降低了加熱面的傳熱系數(shù)，蒸發(fā)速度降低，鍋的真空度超過標準。
3.將冷卻水倒入濃縮設(shè)備中
（1）比真空系統(tǒng)突然斷電到鍋真空。此時并沒有及時關(guān)閉蒸汽，摧毀鍋內(nèi)的真空，真空系統(tǒng)將冷卻水倒入冷凝設(shè)備中。
（2）不按正常的操作順序（在設(shè)備停電后個真空裝置破壞鍋真空），使鍋內(nèi)的真空瞬間真空系統(tǒng)，冷卻水即將倒出。
（3）真空設(shè)備的突然故障對真空系統(tǒng)的泵送率急劇下降，在這種情況下，不采取措施破壞鍋內(nèi)的真空，冷卻水將倒灌。
加熱表面焦炭
（1）設(shè)備內(nèi)料料濃度不足時，加熱面未完全浸入打開蒸氣閥的材料中，N，N-二甲基-1,3-丙二胺完全物化學屬性。被加熱的表面暴露并焦化。生產(chǎn)中斷過程中蒸汽壓力加熱的突然增加和生產(chǎn)過程中操作條件的突然變化可能導致加熱表面的嚴重加熱。
（2）不要按停車的順序進行操作，在加熱蒸汽閥之前不要關(guān)閉，先破壞真空，使材料水平下降，導致表面加熱燒焦。

降膜蒸發(fā)器是將料液自降膜蒸發(fā)器加熱室上管箱加入，經(jīng)液體分布及成膜裝置，均勻分配到各換熱管內(nèi)，在重力和真空誘導及氣流作用下，成均勻膜狀自上而下流動。流動過程中，被殼程加熱介質(zhì)加熱汽化，產(chǎn)生的蒸汽與液相共同進入蒸發(fā)器的分離室，汽液經(jīng)充分分離，蒸汽進入冷凝器冷凝（效操作）或進入下一效蒸發(fā)器作為加熱介質(zhì)，從而實現(xiàn)多效操作，液相則由分離室排出。
降膜蒸發(fā)器廣泛用于醫(yī)藥、食品、化工、輕工等行業(yè)的水或有機溶媒溶液的蒸發(fā)濃縮濃，降膜蒸發(fā)器并可廣泛用于以上行業(yè)的廢液處。尤其是適用于熱敏性物料，該設(shè)備在真空低溫條件下進行連續(xù)操作，具有蒸發(fā)能力高、節(jié)能降耗、運行費用低、且能物料在蒸發(fā)過程中不變性。

如何清洗不銹鋼蒸發(fā)器
1、結(jié)垢原因和危害
（1）正常的結(jié)垢原因和危害
MVR蒸發(fā)器循環(huán)冷卻水含有大量鹽物質(zhì)，腐蝕產(chǎn)物和各種微生物，因為不是水處，蒸發(fā)器運行一段時間后水面會有大量的碳酸鈣和碳酸鎂垢和藻類，微生物污泥，泥土等，這些污垢牢固地附著在銅管的內(nèi)表面，導致傳熱惡化，循環(huán)壓力增加，位真空減少，影響元的運行效率，從而帶來更大的經(jīng)濟性損失。
（2）清洗后的傳熱效率的原因和危害
一般來說，按照正常的清洗過程，并在清洗蒸發(fā)器系統(tǒng)后選擇適當?shù)那逑磩?-2年內(nèi)的傳熱效果不會導致傳熱效率下降，但如果不符合正常工藝要清潔如果商的選擇不正確，會導致整個系統(tǒng)不干凈，甚至嚴重腐蝕設(shè)備管道的東西。
清洗劑的選擇根據(jù)外殼尺寸的組成，縮放組成和原因不同，清洗劑的選擇不同，否則會發(fā)生清潔或清潔腐蝕的情況。
2、清潔原理
碳酸鈣鈣垢可溶于強酸，反應釋放二氧化碳氣體，導致水溶性物質(zhì)達到清洗和清洗的目的，溶解反應方程：
CaCO3+2H+=Ca2++H2O+CO2
Mg（OH）2+2H+=Mg2+2H2O
在清洗過程中，H+會對金屬體產(chǎn)生腐蝕性，并出現(xiàn)氫脆現(xiàn)象，因此將清洗劑加入相應的緩蝕劑中;溶解產(chǎn)生的Fe3+，Cu2+等氧化離子會引起金屬體的點蝕，銅等現(xiàn)象，所以要清洗溶液中加入掩蔽劑。
3、化學清洗前準備工作
4.1斷開與mvr蒸發(fā)器無關(guān)的其他系統(tǒng)。
4.2打開蒸發(fā)器水側(cè)的通氣閥和蒸汽側(cè)低點先導閥的高點，確保反應過程中大量氣體的反應能及時排出和清洗液充滿;同時通過導閥監(jiān)控清洗工藝傳熱銅管泄漏情況。
4.3為了監(jiān)控系統(tǒng)的清潔效果和清潔過程中設(shè)備的腐蝕，在清潔前應將與設(shè)備材料對應的標準腐蝕試件懸掛在清洗槽中。
4、mvr蒸發(fā)器化學清洗，預膜處
化學清洗工藝：
水沖洗→酸洗除垢→水沖洗→鈍化前膜→水處
4.1水沖洗
水沖洗的目的是去除設(shè)備中的污垢，并且當測量出口處的沖洗水時，不會存在水。
4.2酸洗和清潔
水洗完成后，在清洗槽中加入“云清牌蒸發(fā)器清洗劑”，將清洗劑濃度控制在3?10％，在系統(tǒng)中進行清洗和去污，清洗時間8?12小時，濃度分析主劑，并且當其濃度在2小時內(nèi)趨于穩(wěn)定并且在清潔系統(tǒng)中不存在氣體時，酸洗過程終止。
監(jiān)控項目：
清洗主劑濃度（％）1次/半小時;
4.3水沖洗
清潔過程完成后，用水沖洗。用工業(yè)用水更換排放廢酸溶液打開循環(huán)泵系統(tǒng)，沖洗殘留污泥和殘渣，同時在污水池中用NaOH對廢液進行處（pH5?9）。當出口視覺雜質(zhì)不多，當水洗完后，pH值大于5。
監(jiān)控項目：
中和處pH1次/10分鐘
水沖洗pH1次/半小時
4.4鈍化處
用水洗滌后，加入2-3％重量的“云慶牌蒸發(fā)器鈍化劑”進行化學預膜處，提高銅管的耐腐蝕性。整個mvr系統(tǒng)溶液濃度混合后停止循環(huán)，浸泡8?10小時。然后用鹽酸（pH5至9）中和鈍化溶液，并完成清洗過程。
監(jiān)控項目：
循環(huán)配料過程pH1次/半小時
中和處pH1次/10分鐘