化學(xué)組分上的均勻性： 就是說在薄膜中，化合物的原子組分會由于尺度過小而很容易的產(chǎn)生不均勻特性，SiTiO3薄膜，如果鍍膜過程不科學(xué)，那么實(shí)際表面的組分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，鍍的膜并非是想要的膜的化學(xué)成分，這也是真空鍍膜的技術(shù)含量所在。 具體因素也在下面給出。

在鍍膜領(lǐng)域，鍍膜后薄膜樣品的厚度是影響薄膜功用的一個重要因素。因此，當(dāng)點(diǎn)評某薄膜樣品的功用時(shí)，需求檢測該薄膜樣品不同厚度下的功用。對于真空鍍膜的情形，這往往需求進(jìn)行多次試樣的制備。而這樣多次制備樣品存在兩個問題：，不同次生長的樣品，儀器的狀況不同，以至于影響薄膜樣品功用的因素可能不僅僅是厚度;其次，真空鍍膜試驗(yàn)裝取樣品需求重新進(jìn)行真空的獲得，十分耗時(shí)。增加了出產(chǎn)和檢測的本錢。

多功用磁控濺射鍍膜系統(tǒng)，由真空鍍膜系統(tǒng)和手套箱系統(tǒng)集成而成，可在高真空蒸鍍腔室中完結(jié)薄膜蒸鍍，并在手套箱高純惰性氣體氣氛下進(jìn)行樣品的寄存、制備以及蒸鍍后樣品的檢測。蒸騰鍍膜與手套箱組合，實(shí)現(xiàn)蒸鍍、封裝、測驗(yàn)等工藝全封閉制造，使整個薄膜生長和器材制備過程高度集成在一個完整的可控環(huán)境氣氛的系統(tǒng)中，消除有機(jī)大面積電路制備過程中大氣環(huán)境中不穩(wěn)定因素影響，保障了高功用、大面積有機(jī)光電器材和電路的制備。

聚乙烯由于真空鍍膜習(xí)慣差，但經(jīng)過改造后仍是能夠用于真空鍍膜的，但只能出產(chǎn)等級低的包裝產(chǎn)品或隔熱產(chǎn)品，聚丙烯比聚乙烯受熱更穩(wěn)定，并且十分輕，所以其利用價(jià)值比較高，不過聚丙烯與膜層的結(jié)合性比較差，所以表面處理后才能進(jìn)行鍍膜，膜層作裝飾作為，使產(chǎn)品更漂亮。

塑膠具有易成型，價(jià)格便宜，質(zhì)量輕，防腐蝕等長處，但塑膠的缺陷也比較，其缺陷也制約了塑膠的應(yīng)用規(guī)模，如不美觀、易老化、機(jī)械功能差、易碎易變型、耐熱差等。經(jīng)過真空鍍膜機(jī)的應(yīng)用，使塑膠外表鍍上特定膜層，東莞匯成真空自主研制出產(chǎn)的蒸發(fā)真空鍍膜設(shè)備將鍍膜機(jī)資料和塑膠產(chǎn)呂結(jié)合，大大提高了塑膠制品的物理、化學(xué)功能。

真空鍍膜機(jī)的污染物可以定義為“任何一種無用的物質(zhì)或能量”。多弧離子鍍膜機(jī)根據(jù)污染物的物理狀態(tài)可分為固態(tài)、氣態(tài)和液態(tài)，污染物以薄膜或顆粒的形式存在。就其化學(xué)特性而言，它可以是離子態(tài)或共價(jià)態(tài)，無機(jī)態(tài)或有機(jī)態(tài)。

暴露在空氣中的真空鍍膜機(jī)表面容易受到污染。污染源有很多，初的污染通常是地表本身的一部分。吸附現(xiàn)象、化學(xué)反應(yīng)、浸出干燥過程、機(jī)械處理、擴(kuò)散和偏析過程都增加了各種組分的表面污染物。真空材料表面的常見污染物如下。

　?、儆椭?潤滑劑、切削液、真空油脂等。在加工、組裝和操作過程中被污染;

　　②水基類:操作時(shí)的手汗、吹氣時(shí)的水蒸氣、唾液等。

　　③表面氧化物:材料長時(shí)間放置在空氣中或潮濕空氣中形成的表面氧化物;

　?、芩帷A、鹽類物質(zhì):清洗時(shí)的殘留物質(zhì)、手汗、水中的礦物質(zhì)等。

　　⑤環(huán)境空氣中的拋光殘?jiān)?、灰塵和其他有機(jī)物等。
前期清洗真空鍍膜機(jī)可以減少很多麻煩，避免濺射鍍膜機(jī)的很多小問題，對真空鍍膜機(jī)的工作效率和鍍膜質(zhì)量有非常積極的作用。它可以大大提高真空系統(tǒng)中所有壁面和其他部件表面在各種工況下的工作穩(wěn)定性。這些工作條件包括:高溫、低溫以及電子、離子、光子或重粒子的發(fā)射和轟擊。
工件常用的除氣方法是烘烤。工件中的氣體和水分通過加熱排出。涂裝前，工件邊抽邊加熱。當(dāng)工件中的水分和氣體因受熱而釋放出來時(shí)，它們與真空室中的氣體一起被真空泵抽出。針對不同的工件采取不同的脫氣措施，可以有效控制工件內(nèi)部氣體和水的排放，提高涂層的穩(wěn)定性和均勻性。