制法
氧化硼可以用硼酸脫水或五硼酸銨加熱分解的方法制取，其中硼酸脫水方法分為常壓加熱脫水、真空脫水、熱氣流加熱和沸騰床脫水等方法。

氧化硼可廣泛用作硅酸鹽分解時的助熔劑、半導體材料的摻雜劑、有機合成中的酸性催化劑、油漆的耐火添加劑及制取元素硼和多種硼化物的原料等，高純氧化硼（≥99.999%）則是制造Ⅲ~Ⅴ族化合物半導體（如砷化鎵、磷化鎵、砷化銦）時的液封劑。近年來隨著LED行業(yè)的迅速發(fā)展，其襯底材料砷化鎵的產量越來越大，對高純氧化硼的需求也隨之增加。

高純三氧化二硼一般有兩種外觀，一種玻璃狀的碎塊，另一種白色粉末狀的。硼鎂礦石是提煉硼的原料，硼鎂礦石的三氧化二硼含量一般從3％～30％，當硼鎂礦石中的三氧化二硼含量在15％-30％時，此礦石適合做制取硼酸的原料，其它品位的硼鎂礦石適合制取硼及硼化物原料。